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Guanshi Technology: Mass production of 28nm photomask version is expected to be achieved in 2028
Les données de Jinshi le 7 décembre ont indiqué que la technologie de couronnement a déclaré sur la plate-forme interactive que le projet de fabrication de la version photomasque de la société est en cours de construction, et il est prévu que la société réalisera une production en masse de la version photomasque 45nm en 2025 et une production en masse de la version photomasque 28nm en 2028. Après la mise en production complète, la production annuelle de la version photomasque de semi-conducteurs dépassera 12 500 unités.