英特爾採用 ASML 的下一代高數值孔徑(High NA)EUV 光刻技術,用於 Panther Lake 的量產

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根據 ASML 的說法,Intel 於週二(7 月 15 日)開始使用 ASML 下一代高數值孔徑(High NA)EUV 光刻設備來生產 Panther Lake 筆記型電腦處理器。此舉接續於 2024 年啟動的實驗性試驗,Intel 目前已在全面規模的製造中部署該先進工具,以提升生產效率。
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